GSL1100X-PJF là một nhỏ gọn Khí quyển Plasma Jet-Flow (được gọi là tia Plasma, Plasma Pen) hệ thống để xử lý bề mặt, trong đó bao gồm các máy phát RF, linh hoạt ống phân phối khí và đầu chùm plasma. Dòng chảy plasma máy bay phản lực có thể kích hoạt và bề mặt vật liệu sạch nhanh chóng ở nhiệt độ thấp mà không cần chân không, chẳng hạn như wafer đơn tinh thể, thành phần quang học, nhựa vv Nó là tuyệt vời cho các bề mặt điều trị wafer trước khi sơn epitaxy hoặc quang học để có được màng mỏng chất lượng cao hơn.   Thiết bị này cũng có thể được sử dụng để nghiên cứu Atomospheric áp CVD. 
 

Công suất đầu vào	Chuẩn AC 208V - 240V, 50/60 Hz, <1000W Điện AC110V có sẵn với một 1000W biến thêm , xin vui lòng đặt hàng riêng
Tần số ra	20-23 kHz
Tia Plasma đầu	Hai đầu chùm plasma mới có  đầu tròn: 10-12mm đầu retangular: 15-18mm
Tính năng	Xử lý bề mặt tốc độ cao với các hoạt động đơn giản và an toàn Không chân không cũng không buồng yêu cầu với hóa plasma đa năng Chế biến cầm tay hoặc in-line với chi phí thấp trọng lượng nhẹ và kích thước nhỏ gọn
Input khí áp và Khí công tác	40 PSI min. Air, N2, Ar, He hoặc bất kỳ hỗn hợp khí (không khí dễ cháy, dễ nổ)
Plasma áp suất làm việc	7- 10 PSI
Môi trường làm việc	Nhiệt độ: <42 ° C Himunity:: ≤ 40 ℃ RH Không khí dễ cháy
Thước tổng thể	380 (W) x 210 (H) × 500 (D) mm
Khối Lượng Tịnh	10 kg
Bảo hành & Chứng chỉ	Một năm hạn chế với sự hỗ trợ trọn đời CE chứng nhận
Hướng dẫn hoạt động
Ghi chú ứng dụng	A này tomospheric hệ thống Plasma Jet-Flow là tuyệt vời để làm sạch platic, polymer và oxit bề mặt trước khi sơn  Thiết bị này cũng có thể được sử dụng để nghiên cứu Atomospheric áp CVD. Bạn có thể bấm vào hình dưới đây để đặt hệ thống tự động quét của chúng tôi để đạt được sạch hoặc sơn cho 10 "x10" khu vực